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Wafer-Messmaschine
Wafer-Messmaschine
Wafer-Messmaschine
 

Susan ist bisherigen Ausrüstungen auf dem neuesten Stand der Technik aus den folgenden Gründen überlegen:

  • Das Konzept erlaubt eine deutliche Erhöhung der Messgeschwindigkeit.
  • Luftgelagerte Führungen erlauben eine reibungsfreie Bewegung bei gleichzeitig hoher Steifigkeit.
  • Ein innovatives und bisher in diesen Applikationen nicht verwendetes Antriebssystem verbindet eine hohe Bandbreite mit niedrigem Wartungsaufwand und der Möglichkeit zum Reinraumeinsatz.
  • Das nachgerüstete System ist das erste auf dem Markt, das eine hohe laterale Auflösung mit geometrischen Messungen kombiniert.
  • Durch die Rotation des Wafers wird die gesamte Waferoberfläche gemessen.
  • Die Messung wird gleichzeitig auf beiden Seiten durchgeführt. Hierbei ist der Wafer senkrecht montiert, um Fehler durch die Gravitation zu vermeiden.
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